Salon Kraśnik: +48 81 825 97 22 sklep@beiks.pl Salon Warszawa: +48 22 891 13 73 wawa@beiks.pl
Sklep internetowy: +48 600 101 768 sklep@beiks.pl
Salon Kraśnik: +48 81 825 97 22 sklep@beiks.pl Salon Warszawa: +48 22 891 13 73 wawa@beiks.pl
Sklep internetowy: +48 600 101 768 sklep@beiks.pl
Na fali sukcesu wybitnych obiektywów Sigmy z serii Art. tj. 35/1.4 DG HSM oraz 50/1.4 DG HSM powstał kolejny, przeznaczony dla wymagających fotografów oczekujących nieprzeciętnej jakości obrazu przy współpracy ze współczesnymi, wymagającymi matrycami pełnoklatkowymi. Zaawansowany układ 15 soczewek ułożonych w 11 grupach gwarantuje pełną ostrość obrazu już od przysłony F1,4. Aż 3 soczewki wykonano ze specjalnych szkieł FLD oraz 4 soczewki z SLD. Każda soczewka pokryta jest warstwami antyrefleksyjnymi likwidującymi bliki i flary, dzięki czemu obiektyw zachowa odpowiedni kontrast nawet przy fotografowaniu pod słońce. Dopełnieniem jakości obrazu jest 9-cio listkowa, zaokrąglona przysłona, dzięki której uzyskujemy przyjemną plastykę obrazu i pożądany miękki efekt bokeh. Automatyczna ostrość ustawiana jest za pomocą ultradźwiękowego silnika HSM (Hyper Sonic Motor) gwarantującego cichą i szybką pracę. Jest to szczególnie ważne podczas pracy w kościołach, teatrach oraz filmowaniu. Całość zamknięto w stylowej, wytrzymałej obudowie a mosiężny bagnet łączy precyzję z wytrzymałością na lata pracy.
Oprócz zdjęć krajobrazów i martwej natury obiektyw doskonale sprawdzi się w fotografii reporterskiej, astrofotografii oraz videofilmowaniu.
Dzięki nowemu algorytmowi kontrolującemu pracę autofocusa, szybkość i jakość ostrzenia obiektywów SIGMA Art będzie na tym samym poziomie co w konstrukcjach projektowanych oryginalnie dla aparatów bezlusterkowych. Dotyczy to pracy we wszystkich trybach autofocusa, w tym trybu ciągłego AF-C.
Obiektywy będą w pełni kompatybilne z systemem stabilizacji matrycy. Optymalizacja następuje przez ustalenie ogniskowej obiektywu i dostosowanie parametrów stabilizacji wewnątrz aparatu.
Korekcja poziomów jasności na brzegach obrazu, dystorsji oraz aberracji chromatycznej będzie zoptymalizowana dzięki przepływowi informacji o parametrach optycznych z obiektywu do aparatu.
Już na wczesnych etapach procesu projektowania obiektywów, mierzone są flary i bliki w celu zbadania odporności mechanizmu optycznego na silne źródła światła. Specjalna wielowarstwowa powłoka redukuje flary i bliki, by umożliwić fotografom wykonywanie ostrych zdjęć nawet w trudnym oświetleniu.
Arkusz danych
Szczegółowe odniesienia